当前消息!消息称 ASML 将向中国推出“特供版”DUV 光刻机
发布时间:2023-07-06 14:38:59 文章来源:亚汇网


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消息称如果该项目继续推进,中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产28纳米及更成熟工艺的芯片。图源ASML消息称该特别版DUV光刻机基于TwinscanNXT:1980Di光刻系统改造,而1980Di是10年前推出的旧型号,不在本次官方禁令范围内。1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机,支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm,理论上可以支持7nm工艺。大多数晶圆厂使用1980Di光刻机,主要生产14nm及以上工艺芯片,很少使用其生产7nm芯片。亚汇网在此附上DigiTimes广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,亚汇网所有文章均包含本声明。

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